第零章、前言

本文章为第三方撰写,仅用作教学参考,与课程安排无关。

因盲目 「参考」 本文内容而导致被评判为 「抄袭」 的,本人概不负责。

本文的设计工艺及设计思路可能过时,具体要求以 《数字集成电路专题实验指导书》 为准。

初次接触这门实验课,第一印象便是:引导呢?你宛如在玩一款没有新手教学「开放世界冒险游戏」 ,要通过摸索与尝试,宛如搭积木一样,从版图层向上构建,完成一整个芯片的设计。实验的过程无比,无比煎熬。我仿佛在做一场醒不来的噩梦,梦里全都是导不通的管子和缩不了的延时。

让我想到了一款游戏:SHENZHEN I/O

因此,在梦醒之后,我写了一点自己的感想,想着给后面的学弟学妹一点参考。实验的本意是好的,只是学生操作的时候出了点问题。

本文所设计的芯片为SN74LVC112A(后文以112A)代称。

第壹章、上手

原理图及原理简析

从真值表可以知道,这是个下降沿触发的JK触发器。

原理图

真值表

那两个长条子是什么???

这就是这个JK触发器的核心:内部延时器,让信号通过四输入与非门之后有一定的时延。可以近似认为,在时延之后,JK触发器的下一个状态,四输入与非门的输出仍保持不变。

这里必须自己推一遍真值表,验收必定会问原理。

既然是时延器,那必然要求上升时间和下降时间延时相同。这一点会在后文讲解。

参数简析

静态参数

电平/电流要求

VOH/VOL

对于VOH/VOL,只需测量输出端的最高电平/最低电平即可。 需要注意的是,这两个参数均与输出级缓冲器的最后一级强相关。好的输出级缓冲器设计可以避免后续出现各种问题。 一般来说,低电平与NMOS的宽长比相关,高电平与PMOS的宽长比相关。

设计时,倘若最差情况(大电流下SS)满足,则其余情况应均满足要求。建议的余量为10% 否则就会卡在I=24mA的情况

VIH/VIL

对于VIH/VIL,老师给出的测量方法是:对输入端进行DC扫描,测量第一级反相器的输出。

一般来说,VIH/VIL比较容易满足。只要输入级缓冲器正常设计,都能通过。

Ci

Ci,即输入电容,测量方法为给一个输入端脉冲,测量脉冲上升沿时间内输入端口处的平均电流。随后套公式即可。

动态参数

设计时,需确保上升时间与下降时间对称,这要求每一个门等效之后的反相器,PMOS与NMOS的宽之比相同。

动态参数

第贰章、尺寸设计

尺寸设计

标准反相器

按照实验指导书上的尺寸就行。

(wl)p,=10(\frac{w}{l})_{p,标}=10(wl)n,=2.6(\frac{w}{l})_{n,标}=2.6,即wp=3uw_p=3uwn=910nw_n=910n.

则标准反相器尺寸为(wl)p=10(\frac{w}{l})_p=10(wl)n=2.6(\frac{w}{l})_n=2.6wnwp=0.3\frac{w_n}{w_p}=0.3

输出级缓冲器

考虑IOL=24mA, VOL=0.55V, VDD=3VI_{OL}=24mA,\ V_{OL}=0.55V, \ V_{DD}=3V的情况:N管此时工作在线性区。
IOL=12μnCox(wl)n[2(VOHVTH,n)VOLVOL2]I_{OL}=\frac{1}{2}\mu_nC_{ox}(\frac{w}{l})_n[2(V_{OH}-V_{TH,n})V_{OL}-V_{OL}^2],
求得:(wl)n264.63(\frac{w}{l})_n\approx264.63,即wn264.63×0.35=79.38w_n\ge264.63\times0.35=79.38.

考虑IOH=24mA, VOH=2.2V, VDD=3VI_{OH}=24mA,\ V_{OH}=2.2V, \ V_{DD}=3V的情况:P管此时工作在线性区。
IOH=12μpCox(wl)p[2(VOLVDD+VTH,p)(VOLVDD)(VOLVDD)2]I_{OH}=\frac{1}{2}\mu_pC_{ox}(\frac{w}{l})_p[2(V_{OL}-V_{DD}+V_{TH,p})(V_{OL}-V_{DD})-(V_{OL}-V_{DD})^2],
求得:(wl)p612.89(\frac{w}{l})_p\approx612.89,即wp612.89×0.3=183.87w_p\ge612.89\times0.3=183.87.
考虑延时是否满足,tpd=ClΔVIavgt_{pd}=\frac{C_l\Delta V}{I_{avg}}

求得:(wl)p=23.75(\frac{w}{l})_p=23.75。取最大值,即(wl)p=612.89(\frac{w}{l})_p=612.89.
对于反相器放大级数,N=WpLp+WnLn2×Wp,×Lp+Wn,×Ln39.22N=\frac{W_pL_p+W_nL_n}{2\times W_{p,标}\times L_p+W_{n,标}\times L_{n}}\approx39.22.
采用四级反相器链,则α=N42.50\alpha=\sqrt[4]{N}\approx2.50。实际尺寸向上取整。

若考虑上升时间等于下降时间,则WpLp908.6\frac{W_p}{L_p}\geq908.6.

对于输出级缓冲器,延时时间由前几级的放大比例决定。

因此,若是在后仿之后发现VOH/VOL不过关,可以只调节最后一级反相器的尺寸。

输入级缓冲器

输入级缓冲器实际上可不加入,因112A不需要TTL电平兼容。不过从设计角度应该补全。

内部延时缓冲器

为使上升延时与下降延时延长相同时间,使用PMOS的宽长比与NMOS的宽长比交错的办法。举个例子:

级数 PMOS W/L NMOS W/L
1 3/0.3 0.91/0.35
2 0.91/0.35 3/0.3
3 3/0.3 0.91/0.35
4 0.91/0.35 3/0.3

第叁章、测试电路

Vout测试电路

其余测试电路大同小异,只需修改负载端和输入端。在测试延时的时候,根据测试电压的不同,负载电容也不同。要记得修改电容大小。

第肆章、版图设计

以下内容可能包含较多主观感受

  • 等高
  • 等宽
  • 等距

设计版图时请 「务必」 考虑这三要素。

  1. 等高指的是各个门电路的高度差不多相同(建议控制在9-10um之间)
  2. 等宽指的是各个门电路的电源线宽度相同(尽可能大,建议>1.5um)
  3. 等距指的是各个晶体管叉指结构的间距相等,便于后续修改。

此外,布局不需要太过于紧密。宽度可以按照PAD的最小间距来安排(实际上是足够的),高度建议留出一点余量(10%),以备后期调整。

前期布局

图省事,我选择先拼好JK和缓冲器然后镜像对称到下面。布线的话,建议前期只用两层金属走线看您打过孔,毕竟三层金属的分比四层的高。不过做出来才是最重要的。

预留M3和M4金属,为后续潜在的布线问题和电源线走线做准备。

电源线布局

一般来说,建议电源线放在中间,使用顶层金属走线,较为美观。建议宽度为10um。(大于10um会有额外的DRC要求)

输出端口布局

输出端口到PAD的布线请 尽可能 的宽,以避免发生电荷迁移效应,或是后仿时最大电流下VOH/VOL不过关。此外,请尽可能多地打上通孔,以便于通过大电流午安大电牛

版图总览

版图

如果你看不清这张图,说明你导通MOS管导昏过去了。

第伍章、后仿

没啥好说的,仿吧

第陆章、估算

嗯套公式还不会?真的是公公又式式啊你们有没有像我一样的公式啊

Pd=CLfc(VOHVOL)VCCP_d=C_{L总}f_c(V_{OH}-V_{OL})V_{CC}CL=ΣCL+ΣCL1+ΣCPNC_{L总}=\Sigma C_L+\Sigma C_{L1}+\Sigma C_{PN}

tpd=0.35×(1+3.3WNWp)CLμnCox(WL)nt_{pd}=0.35\times(1+3.3\frac{W_N}{W_p})\frac{C_L}{\mu_nC_{ox}(\frac{W}{L})_n}

晶片数量=π×(晶圆直径2)2晶片面积π×晶圆直径2×晶片面积晶片数量=\frac{\pi\times(\frac{晶圆直径}{2})^2}{晶片面积}-\frac{\pi\times晶圆直径}{\sqrt{2\times晶片面积}}

晶片成品率=(1+单位面积缺陷数量×晶片面积3)3晶片成品率=(1+\frac{单位面积缺陷数量\times晶片面积}{3})^-3

晶片成本=晶圆制造费单个晶圆上晶片数量×晶片成品率晶片成本=\frac{晶圆制造费}{单个晶圆上晶片数量\times晶片成品率}

可变成本=晶片成本+晶片测试成本+封装与最终测试成本最终测试成品率可变成本=\frac{晶片成本+晶片测试成本+封装与最终测试成本}{最终测试成品率}

芯片成本=固定成本合格芯片数量+可变成本芯片成本=\frac{固定成本}{合格芯片数量}+可变成本

第柒章、后记

以下内容起警示作用,「请勿」 借鉴。

「造假」 而导致实验评分极低的,本人概不负责。

投机取巧

验收前,老师会让你提前在ADE环境中仿真好并保存好仿真波形和状态。

但实际上,保存当前仿真结果并不会保存工艺角信息。

也就是说,你完全可以使用TT的工艺角来当成SS,使某几个参数「过关」。

对于电压和延时,情况从好到坏分别为FF、TT、SS,电流则恰好相反。

抄袭

听说有些组把以前学长的库加到电脑里对着参考。可以理解,但你直接TM复制一份到自己的库里是不是有点过分了?

第捌章、总结

引导是几乎没有的,老师是尽力帮忙的,课时安排是不合理的,芯片验收是毫不通融的,测试电路是能抄就抄的,设计原理是一头雾水的。

总结:傻逼才学微电子。